局部特征描述改进的LK跟踪注册方法
【摘要】 针对KLT跟踪方法抗光照变化和抗遮挡较差的问题，提出一种使用局部特征描述改进的LK跟踪注册方法(DF-LK)。使用ORB特征点求解初始位姿,通过自适应非极大值抑制重新划分特征点，选择均匀分布的特征点作为LK方法跟踪的控制点集%相邻帧图像之间的单应性矩阵通过在DF描述后的图像上使用LK方法进行求解，跟踪的结果由向前向后错误检测进行评估，由单应性矩阵和初始位姿求解出当前帧的摄像机位姿，并叠加虚拟信息。实验结果表明，该方法在光照变化、部分遮挡和透视变化时均有较好的稳定性和鲁棒性。
