纳米二氧化硅粒径尺寸调控及其对表面化学修饰的影响研究
【摘要】 本文通过仪米透射电镜(、sol-gel)TEM法制备了粒径可控的纳米扫描电镜(、SEMSiO2对其表面化学修饰的影响机制。表面呈粗糙和不规则球形时，80nmSiO2SiO2)以及红外光谱(结果表明，粒径小于。FTIRsol-gel80nm纳米，最小粒径为SiO2350nm。，最大粒径为35nm)表征了纳米法制备纳米的采用比表面积测试的物理化学特性，研究了不同粒径纳用水量显著影响粒径尺寸，粒径小于表面的羟基主要以孤立的羟基存在，而粒径大于SiO2表面的羟基结合状态决定了其表面与硅氧烷化学反这与硅氧烷反应SiO2SiO2。时，其表面的羟基以氢键结合的状态为主。180nm应活性，氢键结合的羟基基团不利于硅氧烷的化学修饰，孤立存在的羟基基团有利于纳米一研究结果对指导纳米二氧化硅的表面处理和化学修饰具有重要意义
