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真空阴极电弧离子源磁场分析与设计

【摘要】 真空阴极电弧离子源是多弧离子镀膜设备的核心部件，直接影响镀膜系统的整体性能。真空阴极电弧离子源在工作时，大液滴发射是阻碍电弧离子镀技术广泛深入应用的瓶颈问题。合理设计并利用磁场可以很好地控制弧斑运动，大幅度地减少液滴、减小液滴尺寸、提高膜层质量和使用寿命。对真空阴极电弧离子源的附加磁场进行了理论分析和仿真计算，为附加磁场的优化设计提供了重要的指导依据。O462

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